平成19年6月6日
東京ガスケミカル株式会社

最新式の小型オンサイト水素製造設備による水素供給を開始

東京ガスケミカル(株)は、水素ガス供給・販売先のひとつである日本金属株式会社鋼帯事業本部板橋工場様向けの都市ガスを原料としたオンサイト型水素製造設備を最新式に 更新し、本年6月から商用運転を開始しました。
 当工場への水素ガスは、平成9年4月からオンサイト型水素製造設備(130Nm3/h×2基)により、金属表面処理用として供給してきましたが、同設備に対する10年間の水素ガス 供給契約の満了に伴い、日本金属様のご理解のもと、設備の更新に至ったものです。
新設備は、三菱化工機株式会社が新たに開発した「HyGeia(ハイジェイア)」と呼ばれるパッケージタイプの機種(100Nm3/h×3基)です。従来機に比べて、水素製造効率が向上し、原料使用量が約20%削減されます。また、高度な自動運転化の実現とともに省スペース化(従来機との比較で設置面積は約1/2)が図られ、現場工期も従来に比べて約半分に短縮されるなど、各種の改善が図られています。
なお、製造された水素純度は99.999vol%以上で、原料原単位は0.370Nm3/Nm3-H2の仕様となっています。

商用運転を開始した小型オンサイト水素製造設備「HyGeia」1号機の外観
設備仕様
水素発生能力 100m3/h×3基
水素純度 99.999vol.%以上
原料 都市ガス(天然ガス)
原料原単位 0.370Nm3/Nm3-H2
露点 -70℃以下(大気圧下)
製品水素圧力 最大0.7MPaG
負荷変動幅 30〜100%